uretana penawar kelembapan

produk

uretana penawar kelembapan

  • SWD9594 penawar kelembapan tangki simpanan kimia poliuretana dinding dalaman salutan antikarat tugas berat

    SWD9594 penawar kelembapan tangki simpanan kimia poliuretana dinding dalaman salutan antikarat tugas berat

    Tangki simpanan bahan kimia adalah peralatan yang sangat penting dalam kilang kimia, apabila tangki itu bocor atau rosak, ia tidak akan menyebabkan kehilangan harta benda malah mencederakan pekerja.SWD9594 adalah bahan salutan poliuretana penawar kelembapan berprestasi tinggi, salutan itu menggunakan sejumlah besar ikatan urea, dua ikatan urea, ikatan uretana dan ikatan hidrogen semasa proses pra pempolimeran, ia disembuhkan selepas penyerapan dengan lembapan udara, silang padat- rangkaian interpenetrasi yang dipautkan menjadikan filem salutan mempunyai rintangan kimia dan sifat fizikal yang teguh.Ia mempunyai ciri penyusupan dan kebolehtelapan yang sangat baik, dan ia akan bertindak balas dengan ikatan hidroksil substrat supaya kekuatan pelekat bertambah baik dengan lekatan kimia dan fizikal.Dalam aplikasi dinding dalaman tangki simpanan, salutan SWD9594 boleh digunakan padanan dengan primer khas, ia juga boleh digunakan sebagai bahan penyepaduan bawah.

  • SWD959 penawar kelembapan salutan perlindungan antikarat industri poliuretana

    SWD959 penawar kelembapan salutan perlindungan antikarat industri poliuretana

    SWD959 penawar lembapan salutan perlindungan antikarat industri poliuretana mengambil satu komponen polimer resin poliuretana sebagai bahan mentah.Membran filem adalah padat, padat dan elastik, ia boleh menyesuaikan diri dengan ubah bentuk sedikit tanpa retak akibat getaran dan perubahan cuaca pada pelbagai struktur logam perusahaan perindustrian.Ia mengelakkan penembusan udara, lembapan dan media kakisan lain untuk menjadi anti karat struktur logam.Filem salutan mempunyai banyak ikatan urea, ikatan biuret, ikatan uretana dan ikatan hidrogen untuk menjadikan sifat fizikal yang sangat baik dan prestasi antikarat.